平面抛光机的原理及抛光机理

　　在生活中平面抛光机也是一种比较常见的机械设备，是指将平面工件进行超精密加工，祛除工件表面的划痕，斑点，塌边现象，使工件表面光亮，平滑，成镜面效果甚至达到某一精确的粗超度值的机器。今天小编就来为大家说说平面抛光机的原理、抛光机理及用途。

　　平面抛光机的原理

　　通过发动机带动磨盘转动，并和在磨盘上自转的工件产生摩擦，运用摩擦产生切削力，将工件表面凹凸不平的地方磨平，来达到抛光目的。

　　平面抛光机的抛光机理

　　平面抛光机其机理应该分别是三种结合，因为在平面抛光机在工作过程时会化学作用、机械磨削、表面流动的理论。

　　1、化学作用理论

　　在抛光过程时，工件表面，抛光剂，抛光模和水的作用下，发复杂的化学过程。如，光学玻璃表面发生水解过程，或者硬脆性材料发生化学腐蚀过程。

　　2、机械磨削理论

　　抛光是继研磨之后的工作，其两者本质相关不大。都是通过尖硬的磨料颗粒对工件表面进行细微切削作用的结果。但抛光用的磨料对于研磨的磨料颗粒更加细微的抛光剂，微小的切削可以在分子大小范围内进行。抛光模与工件表面吻合相当，抛光时切向力较大，从而使工件表面凹凸的微裂结构被磨切掉，就形成了工件光滑的表面。

　　3、表面流量理论

　　工件表面由于高压和相对运动，摩擦生热致使表面产生塑性的流动，凸起部分会凹下部分填平，形成光滑的抛光表面。分别有两种理论：

　　（1）是根据抛光表面用金钢石划成图案，然后抛掉，而再用酸腐蚀后图案划痕再现。

　　（2）是由抛去厚度计算的抛去重量比实测的大得多，于是就认为抛光的质量填到表面凹凸层的谷部。由此说明流动作用的覆盖。

　　综上所述，抛光过程是极其复杂的，至今也没有完善统一的结论。以上据说的理论化学作用是必须的，而机械理论是基本的，表面流动理论也存在一定的可能性。