高真空离子溅射仪

西域库存号：

L3320175     L3320176    

产品名称：

高真空离子溅射仪

产品简述：

EHSY Lab西域品质提供的高真空离子溅射仪性能卓越，能满足您不同工作环

境的多种需求。


该仪器使用“涡轮”泵，前级为旋转机械泵，整个抽真空过程为自动控制。

真空度可调整，以适应铬或其它易氧化金属，以及金靶等不同材料要求，定

时器可设置成不同的溅射时间。

本系统装配了磁控管靶，靶面直径为54 mm，可快速更换靶材。

溅射头用Peltier制冷，可得到高性能、精细颗粒的涂层（无需水冷却）。

溅射时参数可预设，包括气体放气电磁阀。

优点

● 可溅射易氧化金属精细颗粒，如：铬（Cr）或铱(Ir)

● 应用范围广，除了可选溅射常用金属靶材如：金银铂钯铜锡铝镁铁钴镍铬

钛钼钨铱钽等单质纯金属靶材之外，还可选配金钯合金靶、铂钯合金靶、碳

靶以及ITO（氧化铟锡）靶等特殊靶材

● 易操作

● 无需水冷却

● 超高分辨率，可复制涂层

● 适应各种样品

● 重复膜厚沉积

● 样品容易装载和卸载

● 不需要打开真空即可进行顺序涂层

● 沉积厚度可预设

主要特点

● 全自动控制

● Peltier冷却溅射头

● 精细镀层（0.5nm Cr粒子）

● 可倾斜的特殊旋转台作为标准配置

● 薄膜沉积（典型为5nm）

● 直径为165mm腔室

● 可选双溅射头

● 可接膜厚测控仪

技术参数

仪器尺寸：450mm W x 350mm D x 175mm H

工作腔室：硼硅酸盐玻璃 165mm Dia x 125mm H

安全钟罩：聚碳酸酯

基座：110 mm直径 x 115mm高

重量：42公斤

靶：54 mm 直径 x 0.2mm 厚(铬作为标准靶材)

样品台：50mm直径，具有倾斜功能的旋转样品台

操作真空：1 x 10-2 mbar到 1 x 10-4 mbar

溅射电流：0-150mA

沉积速率：0-20nm/分

溅射定时： 0-4 分钟

涡轮分子泵：60 litres/Second (极限真空 1x10-8 mbar)

Services - Argon - Nominal 10 psi；

Nitrogen- Nominal 10 psi (Argon may be used as common gas)

真空泵：No 2. 泵complete with Vac. Hose & Oil Mist Filter 35L/Min

2m3/Hr

电源：230伏/50Hz(包括泵最大电流为6安培)


作为众多知名品牌的合作伙伴，EHSY Lab西域以其优良的品质和服务来保证

阁下员工的职业健康，安全环境和美好未来。

备       注  ：

产品报价包含17%增值税，但不包含国内配送运费。