哈纳/HANNA 微电脑二氧化硅（LR）浓度测定仪，HI96705 售卖规格：1台

• 二氧化硅在溶解矿物质的天然水体中存在。但在工业应用中却不希望有二氧化硅的存在，因为二氧化硅会引起结垢现象。

• 特别是高压管道中更易受二氧化硅的影响。

• 加热系统和反渗透工厂也有必要监测二氧化硅。

  CAL CHECKTM 性能核查功能 

• 仪器在使用一段时间后，仪器光学系统将会衰减，造成内部设置的标准曲线会出现漂移，影响测量数据可靠性和准确性。

• 独有CAL CHECKTM性能核查功能，二氧化硅NIST测量曲线标定组可定期（频繁使用，1-3个月标定一次，常规情况下，半年标定一次）仪器内部曲线进行标定和校正，修订内部标准曲线漂移，确保测量数据正确可靠。

• 二氧化硅NIST测量曲线标定组，保存和使用应在18 to 25°C（64.5 to 77°F）温度范围内，非Hanna 品牌专用二氧化硅NIST测量曲线标定组会造成内置标准曲线严重漂移，甚至会损坏仪器。

• 测量范围：0.00 to 2.00 mg/ L（ppm）SiO2

• CAL CHECK 内置标准曲线核查及标定，确保数据准确性

• GLP功能，随时更新、查阅标定数据、日期、标准等信息

• 优良的光学系统设计，人性化确认操作，保证仪器的良好校准；

• 双行易读LCD显示屏，人性化显示界面，操作简单、快捷；

• 倒计时功能，试剂与样品反应时间一致性，确保测量精确度；

• 操作简单，定期内置标准曲线标定功能，确保仪器性能最佳；

• 出厂前内置标准曲线标定，具有CAL CHECK 性能核查功能， 

• GLP功能，随时更新、查阅标定数据、日期、标准等信息；

• 高精度测量结果，光源防尘测量系统，自动关机节电模式

• 优良防水性能，适用于实验室和现场快速样品分析测量。

测量范围：0.00 to 2.00 mg/ L（ppm）SiO2
解 析 度：0.01 mg/ L（ppm）
测量精度：读数±3% ±0.03 mg/L @ 25°C

测量方法：参照ASTM D859标准杂多蓝方法
光学系统：定制专用接收器暨光源系统